国际企业中心南区及东区方案设计任务书一、 项目名称国际企业中心南区及东区方案设计二、项目用地概括本项目位于“武汉·中国光谷”两大产业园区—光电子产业区和生物工程产业区之间，相邻关山二路（宽60米），紧邻已设计完成的国际企业中心北区。基地面积约157420.7㎡（含代征）。区域内地势由北向南缓慢降低。关山二路将用地划分为两块。南区约91420.7㎡（含代征），东区约66000㎡（含代征）。二、 设计要求 ·方案应符合以下原则： 1. 文化原则设计应力求继续挖掘国际企业中心北区的产生背景——中国·光谷的科技文化底蕴，并体现新时代的风貌。 2. 整体原则科技园应形成整体的空间环境形象，并明确主题。 3. 以人为本应探讨高科技从业人员的思维特质，创造适宜工作的环境。 4. 生态原则充分考虑武汉气候，并评估周边地区环境特征，实现人与自然、用地和区域的和谐共生。 5. 弹性原则适应综合性的功能发展，同时由于行业的发展状况，开发区政府的政策文化，集团公司资金运作方式等要求有一个弹性的规划布局。 6. 共享原则充分利用国际企业中心北区的服务设施。同时，科技园内部各项功能应相对集中，最大限度地让园区投资者共享。 7. 分期实施原则可以分阶段及............

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